گزارش صنعت تولید تجهیزات لیتوگرافی ماوراء بنفش 2025: تحلیل عمیق از رشد بازار، تغییرات فناوری و دینامیکهای رقابتی. بررسی عوامل کلیدی، پیشبینیها و فرصتهای استراتژیک شکلدهنده این بخش.
- خلاصه اجرایی و مرور بازار
- چندین روند کلیدی فناوری در تجهیزات لیتوگرافی ماوراء بنفش
- چشمانداز رقابتی و تولیدکنندگان پیشرو
- پیشبینیهای رشد بازار (2025–2030): CAGR، تحلیل درآمد و حجم
- تحلیل بازار منطقهای: آمریکای شمالی، اروپا، آسیا و اقیانوسیه و سایر نقاط جهان
- چشمانداز آینده: نوآوری، سرمایهگذاری و گسترش بازار
- چالشها و فرصتها: زنجیره تأمین، مقررات و کاربردهای نوظهور
- منابع و مراجع
خلاصه اجرایی و مرور بازار
تولید تجهیزات لیتوگرافی ماوراء بنفش (UV) یک بخش حیاتی در صنعت تولید نیمهرساناها است که امکان تولید مدارهای مجتمع کوچکتر و پیچیدهتر را فراهم میکند. تا سال 2025، بازار تجهیزات لیتوگرافی UV در حال تجربهی رشد چشمگیری است که ناشی از تقاضای بیوقفه برای تراشههای پیشرفته در کاربردهایی مانند هوش مصنوعی، 5G، الکترونیک خودرویی و محاسبات با عملکرد بالا است. لیتوگرافی UV، به خصوص فناوریهای ماوراء بنفش عمیق (DUV) و ماوراء بنفش فوقالعاده (EUV)، در خط مقدم تحقق قانون مور قرار دارد و به تولیدکنندگان تراشه این امکان را میدهد که الگوهای دقیقتر و چگالی ترانزیستورهای بالاتر را بهدست آورند.
بازار جهانی تجهیزات لیتوگرافی UV تحت تسلط چند بازیگر کلیدی است و ASML Holding NV در موقعیت رهبری قرار دارد، بهویژه در سیستمهای EUV که برای گرههای فرآیندی زیر 7 نانومتر حیاتی هستند. سایر تولیدکنندگان مهم شامل Canon Inc. و Nikon Corporation هستند که هر دو بر روی سیستمهای لیتوگرافی DUV تمرکز دارند. طبق گزارش گارتنر، بازار تجهیزات نیمهرسانا در سال 2024 به شدت بهبود یافت و زمینه را برای ادامه سرمایهگذاری در ابزارهای لیتوگرافی در سال 2025 فراهم کرد.
تحلیلگران بازار پیشبینی میکنند که بخش تجهیزات لیتوگرافی UV تا سال 2025 به ارزش بیش از 20 میلیارد دلار برسد، با نرخ رشد سالانه ترکیبی (CAGR) بیش از 8% از سال 2023 تا 2025، همانطور که توسط SEMI گزارش شده است. این رشد ناشی از گسترش ظرفیت شدید در شرکتهای پیشرو مانند TSMC، Samsung Electronics و Intel Corporation است که همگی در حال سرمایهگذاری عظیم در لیتوگرافی نسل بعدی برای حفظ رهبری فناوری هستند.
- افزایش تقاضا برای گرههای پیشرفته (5 نانومتر، 3 نانومتر و زیر آن) پذیرش لیتوگرافی EUV را تسریع میکند.
- محدودیتهای زنجیره تأمین و پیچیدگی سیستمهای EUV، چالشهایی برای تولیدکنندگان تجهیزات ایجاد میکند و منجر به زمانهای تأخیر طولانی و هزینههای سرمایهای بالا میشود.
- عوامل ژئوپولیتیک، از جمله کنترلهای صادراتی و منطقهای شدن زنجیره تأمین نیمهرساناها، بر الگوهای سرمایهگذاری و انتقال فناوری تأثیر میگذارد.
به طور خلاصه، بازار تولید تجهیزات لیتوگرافی UV در سال 2025 با چشماندازهای رشد قوی، نوآوریهای فناوری و سرمایهگذاریهای استراتژیک مشخص میشود و آن را به عنوان یک حلقه کلیدی در زنجیره ارزش جهانی نیمهرساناها قرار میدهد.
چندین روند کلیدی فناوری در تجهیزات لیتوگرافی ماوراء بنفش
تولید تجهیزات لیتوگرافی ماوراء بنفش (UV) در سال 2025 در حال undergoing تحول قابل توجهی است که ناشی از تقاضای بیوقفه برای دستگاههای نیمهرسانای کوچکتر و قدرتمندتر است. روندهای کلیدی فناوری در حال شکلدادن به چشمانداز رقابتی و تأثیرگذاری بر جهتگیری تحقیقات و توسعه در این بخش هستند.
یکی از بارزترین روندها پیشرفت سیستمهای لیتوگرافی ماوراء بنفش عمیق (DUV) و ماوراء بنفش فوقالعاده (EUV) است. در حالی که DUV همچنان برای گرههای فرآیندی بالغ به طور گستردهای استفاده میشود، EUV به طور فزایندهای برای تولید زیر 7 نانومتر حیاتی است و طول موجهای کوتاهتری (13.5 نانومتر) را ارائه میدهد که امکان الگوپردازی دقیقتر و چگالی بالاتر ترانزیستورها را فراهم میکند. تولیدکنندگان پیشرو به شدت در توسعه ابزارهای EUV سرمایهگذاری میکنند و ASML Holding سلطه خود را در تأمین سیستمهای EUV حفظ کرده و به بهبود قدرت منبع، نرخ تولید و زمان کارکرد میپردازد.
روند دیگر ادغام فناوریهای پیشرفته اپتیک و منابع نوری است. نوآوریها در اپتیکهای با عدد آبی بالا (High-NA) در حال افزایش حدود دقت لیتوگرافی EUV هستند و انتظار میرود اولین اسکنرهای EUV با عدد آبی بالا در سال 2025 وارد تولید پایلوت شوند. این سیستمها که دارای لنزها و آینههای بزرگتری با دقت نانومتری هستند، برای پشتیبانی از معماریهای تراشه نسل بعدی و مقیاس بیشتر طراحی شدهاند.
خودکارسازی و هوش مصنوعی (AI) نیز در حال متحول کردن تولید تجهیزات لیتوگرافی UV هستند. راهحلهای هوشمند تولید، از جمله نگهداری پیشبینیپذیر و الگوریتمهای بهینهسازی فرآیند، در حال ادغام در ابزارهای لیتوگرافی برای افزایش بازده، کاهش زمان خرابی و کاهش هزینههای عملیاتی هستند. Tokyo Electron و Canon Inc. از جمله شرکتهایی هستند که از تجزیه و تحلیلهای مبتنی بر AI برای بهبود عملکرد ابزار و کنترل فرآیند بهرهبرداری میکنند.
نوآوری در مواد نیز یکی دیگر از حوزههای مورد توجه است. توسعهی آرایشهای نوری جدید و پِلِیکهای سازگار با فوتونهای با انرژی بالا در EUV برای حفظ دقت الگو و حداقل کردن نقصها ضروری است. تلاشهای مشترک بین سازندگان تجهیزات و تأمینکنندگان مواد به تجاریسازی این مواد پیشرفته سرعت میبخشد، همانطور که در همکاریهای مربوط به JSR Corporation و Dow Inc. مشهود است.
در نهایت، پایداری به عنوان یک موضوع کلیدی در حال ظهور است. تولیدکنندگان در حال اولویت دادن به طراحیهای انرژیکارآمد و کاهش استفاده از مواد شیمیایی خطرناک در فرآیندهای لیتوگرافی هستند، که با اهداف گستردهتر صنعت برای تولید نیمهرساناهای سبزتر سازگار است. این روندها به طور مشترک ماهیت پویا و مبتنی بر نوآوری تولید تجهیزات لیتوگرافی UV در سال 2025 را برجسته میسازند.
چشمانداز رقابتی و تولیدکنندگان پیشرو
چشمانداز رقابتی صنعت تولید تجهیزات لیتوگرافی ماوراء بنفش (UV) در سال 2025 با گروهی متمرکز از بازیگران جهانی، سرمایهگذاری شدید در تحقیقات و توسعه و همکاریهای استراتژیک مشخص میشود. این بازار عمدتاً تحت تأثیر تقاضای مداوم برای دستگاههای نیمهرسانای پیشرفته قرار دارد و لیتوگرافی UV تکنولوژی حیاتی برای الگوپردازی در مقیاسهای زیر میکرو و نانومتر محسوب میشود.
بازار را تولیدکنندگان تجهیزات شناختهشدهای مانند ASML Holding NV رهبری میکنند که با سیستمهای لیتوگرافی ماوراء بنفش عمیق (DUV) و ماوراء بنفش فوقالعاده (EUV) در بخش بالای بازار تسلط پیدا کرده است. رهبری فناوری ASML به فنآوریهای منبع نوری و اپتیک اختصاصی خود و همچنین همکاریهای گسترده با کارخانههای نیمهرسانا و تولیدکنندگان دستگاههای یکپارچه (IDM) استوار است. در سال 2024، ASML بیش از 60% بازار جهانی تجهیزات لیتوگرافی را در اختیار داشت و سیستمهای DUV آن همچنان در تقاضای بالا برای تولید هر دو گره پیشرفته و بالغ قرار دارند Gartner.
دیگر بازیگران مهم شامل Canon Inc. و Nikon Corporation هستند که هر دو در بخش لیتوگرافی DUV موقعیتهای قوی دارند. تمرکز Canon بر روی سیستمهای i-line و KrF به کاربردهای ویژه و نیمهرساناهای قدیمی اختصاص دارد، در حالی که Nikon به نوآوری در ابزارهای لیتوگرافی غوطهوری ArF و خشک ادامه میدهد. این دو شرکت در حال بهرهبرداری از تخصص مهندسی اپتیک خود برای حفظ سهم بازار، به ویژه در آسیا و اقیانوسیه هستند، جایی که تقاضا برای تولید گرههای بالغ همچنان قوی است SEMI.
رقبای نوظهور از چین، مانند SMEE (شرکت تجهیزات الکترونیکی میکرو شانگهای)، در حال انجام سرمایهگذاریهای استراتژیک برای محلیسازی تولید ابزارهای لیتوگرافی UV هستند. در حالی که سیستمهای آنها در زمینه وضوح و نرخ تولید هنوز عقبتر هستند، حمایت دولتی و افزایش هزینههای تحقیق و توسعه انتظار میرود که شکاف فناوری را در چند سال آینده کاهش دهد IDC.
به طور کلی، بازار تجهیزات لیتوگرافی UV در سال 2025 با موانع بالای ورود، وابستگی به اپتیکهای دقیق و مواد و تمایل به ادغام عمودی مشخص میشود. انتظار میرود که روابط استراتژیک بین سازندگان تجهیزات، تأمینکنندگان مواد و تولیدکنندگان تراشهها تشدید شود، زیرا صنعت به دنبال رسیدگی به چالشهای فناوری و زنجیره تأمین است.
پیشبینیهای رشد بازار (2025–2030): CAGR، تحلیل درآمد و حجم
بازار تولید تجهیزات لیتوگرافی ماوراء بنفش (UV) در بین سالهای 2025 و 2030 برای رشد چشمگیری آماده است، که ناشی از افزایش تقاضا برای دستگاههای نیمهرسانای پیشرفته و مینیاتوریزه شدن مداوم مدارهای مجتمع است. طبق پیشبینیهای گارتنر و SEMI، انتظار میرود که بازار جهانی تجهیزات لیتوگرافی UV در این دوره رشد ترکیبی سالانه (CAGR) حدود 7.5 درصد را ثبت کند. این رشد به واسطه افزایش پذیرش فناوریهای لیتوگرافی ماوراء بنفش عمیق (DUV) و ماوراء بنفش فوقالعاده (EUV) که برای تولید گرههای زیر 7 نانومتر و زیر 5 نانومتر در تولید نیمهرساناها ضروری هستند، تأمین میشود.
پیشبینیهای درآمد نشان میدهد که اندازه بازار، که در سال 2025 حدود 12.8 میلیارد دلار ارزشگذاری میشود، ممکن است تا سال 2030 به تقریباً 18.5 میلیارد دلار برسد. این گسترش به گسترش ظرفیت توسط کارخانههای پیشرو و ورود بازیگران جدید که در حال سرمایهگذاری در ابزارهای لیتوگرافی پیشرفته هستند، نسبت داده میشود. منطقه آسیا و اقیانوسیه، که چین، تایوان و کره جنوبی را شامل میشود، انتظار میرود که بیش از 60% از درآمد جهانی را تا سال 2030 به خود اختصاص دهد، بر اساس IC Insights. این تسلط منطقهای به سرمایهگذاریهای تهاجمی در کارخانههای تولید نیمهرسانا و ابتکارات مورد حمایت دولت برای محلیسازی تولید تراشهها تحریک میشود.
از نظر حجم، پیشبینی میشود که حمل سالانه سیستمهای لیتوگرافی UV از حدود 1,200 واحد در سال 2025 به بیش از 1,700 واحد تا سال 2030 افزایش یابد. افزایش حجم عمدتاً ناشی از گسترش الکترونیک مصرفی، الکترونیک خودرویی و زیرساختهای 5G و AI است، که همگی نیاز به تراشههای پیشرفتهای دارند که با فرآیندهای لیتوگرافی UV تولید میشوند. بهویژه، انتظار میرود نیاز به سیستمهای لیتوگرافی EUV که قیمت فروش میانگین بالاتری دارند، از سیستمهای DUV سنتی بیشتر شود و به رشد درآمد کلی بازار کمک کند.
بازیگران کلیدی بازار مانند ASML Holding، Canon Inc. و Nikon Corporation انتظار میرود که رهبری فناوری خود را حفظ کنند، با سرمایهگذاریهای مداوم در تحقیق و توسعه که هدف آن بهبود نرخ تولید، وضوح و کارایی هزینه است. چشمانداز رقابتی همچنین احتمال دارد که همکاریهای بیشتری بین تولیدکنندگان تجهیزات و کارخانههای نیمهرسانا برای تسریع پذیرش راهحلهای لیتوگرافی UV نسل بعدی را مشاهده کند.
تحلیل بازار منطقهای: آمریکای شمالی، اروپا، آسیا و اقیانوسیه و سایر نقاط جهان
بازار تولید تجهیزات لیتوگرافی ماوراء بنفش (UV) در سطح منطقهای دارای دینامیکهای متمایزی در سراسر آمریکای شمالی، اروپا، آسیا و اقیانوسیه و سایر نقاط جهان است که تحت تأثیر رهبری فناوری، تمرکز صنعت نیمهرسانا و ابتکارات دولتی قرار دارد.
آمریکای شمالی همچنان یک منطقه محوری است که ناشی از حضور تولیدکنندگان پیشروی نیمهرسانا و سرمایهگذاریهای قوی در تحقیق و توسعه است. ایالات متحده به ویژه از فعالیتهای بازیگران مهمی مانند Applied Materials و Lam Research بهرهمند میشود و همچنین از ابتکارات دولتی مورد حمایت برای تقویت تولید داخلی تراشه بهره میبرد. انجمن صنعت نیمهرسانا پیشبینی میکند که تقاضای تجهیزات لیتوگرافی UV مرتبط با قانون CHIPS و تلاش برای تولید گرههای پیشرفته ادامه خواهد یافت. با این حال، محدودیتهای زنجیره تأمین و کمبود استعدادها همچنان چالشهایی برای این منطقه به حساب میآیند.
اروپا با رهبری تکنولوژیکی خود در تولید لیتوگرافی مشخص میشود و ASML که در هلند مستقر است، به عنوان تأمینکننده غالب جهان در سیستمهای پیشرفته UV و EUV شناخته میشود. بازار این منطقه همچنین از برنامههای همکاری تحقیق و توسعه و تمرکز بر حفظ حاکمیت در تولید نیمهرسانا حمایت میشود. طبق گزارش SEMI، انتظار میرود فروش تجهیزات در اروپا به طور پیوسته تا سال 2025 رشد کند که در نتیجه سرمایهگذاری در کارخانههای جدید و قانون تراشههای اروپایی است.
آسیا و اقیانوسیه بزرگترین و سریعترین بازار برای تجهیزات لیتوگرافی UV است و بیش از 60% از ظرفیت تولید نیمهرسانای جهانی را به خود اختصاص میدهد. کشورهایی مانند تایوان، کره جنوبی، ژاپن و بهطور فزایندهای چین، در حال میزبانی از کارخانههای پیشرو و تولیدکنندگان حافظه، شامل TSMC، Samsung Electronics و Micron Technology هستند (که عملیات قابل توجهی در این منطقه دارند). گزارش دادههای بازار تجهیزات SEMI پیشبینی میکند که تقاضا برای تجهیزات در آسیا و اقیانوسیه تا سال 2025 ادامهدار بماند، که بهوسیله گسترش ظرفیت تهاجمی و مشوقهای دولتی تقویت میشود.
- تایوان: تولید گرههای پیشرفته را تصاحب کرده است، با سرمایهگذاریهای مداوم TSMC در لیتوگرافی UV برای فرآیندهای زیر 5 نانومتر.
- کره جنوبی: تمرکز بر تولید تراشههای حافظه، با توسعه پذیرش لیتوگرافی UV توسط Samsung و SK Hynix.
- چین: توسعه تجهیزات داخلی را در میان محدودیتهای تجاری تسریع میکند و با تأمین مالی دولتی برای تولیدکنندگان محلی همراه است.
سایر نقاط جهان، از جمله اسرائیل، سنگاپور و برخی کشورهای خاورمیانه، بازارهای کوچکتری دارند اما از نظر استراتژیک حائز اهمیت هستند و معمولاً به کاربردهای خاص یا به عنوان مراکز منطقهای برای تأمینکنندگان تجهیزات چندملیتی خدمت میکنند. رشد در این مناطق بهطور معمول به سرمایهگذاری مستقیم خارجی و توافقهای انتقال فناوری مربوط میشود.
چشمانداز آینده: نوآوری، سرمایهگذاری و گسترش بازار
چشمانداز آینده تولید تجهیزات لیتوگرافی ماوراء بنفش (UV) در سال 2025 تحت تأثیر نوآوری سریع، سرمایهگذاری قوی و گسترش استراتژیک بازار قرار دارد. با ادامه کوچکتر شدن هندسههای دستگاههای نیمهرسانا، تقاضا برای راهحلهای لیتوگرافی پیشرفته، بهویژه سیستمهای ماوراء بنفش عمیق (DUV) و ماوراء بنفش فوقالعاده (EUV)، بهطور قابل توجهی قوی باقی میماند. تولیدکنندگان پیشرو در حال تشدید تلاشهای تحقیق و توسعه برای بهبود وضوح، نرخ تولید و کارآیی هزینه هستند که تمرکز بر آزادسازی گرههای فرآیندی زیر 5 نانومتر و حتی زیر 3 نانومتر است.
نوآوری در حال متمرکز شدن بر بهبود قدرت منابع نوری، فناوریهای ماسک و مواد حساس به نور است. به عنوان مثال، سیستمهای EUV در حال توسعه با منابع با وات بالاتر هستند تا خروجی ویفر در ساعت را افزایش دهند و با چالش نرخ تولید در تولید انبوه مقابله کنند. شرکتهایی مانند ASML Holding در خط مقدم قرار دارند و به شدت در پلتفرمهای EUV نسل بعدی سرمایهگذاری کرده و با سازندگان تراشه برای بهبود پیوند فرآیند همکاری میکنند. علاوه بر این، پیشرفتها در فنونی DUV با چند الگویسازی، عمر تجهیزات موجود را تمدید میکند و پلهایی برای کارخانههایی فراهم میآورد که هنوز آماده گذار کامل به EUV نیستند.
روندهای سرمایهگذاری نیز حاکی از افزایش هزینههای سرمایهگذاری توسط تولیدکنندگان تجهیزات و کارخانههای نیمهرسانا است. طبق گزارش SEMI، انتظار میرود که هزینههای تجهیزات جهانی کارخانه به اوجهای جدیدی در سال 2025 برسد که ناشی از گسترش ظرفیت در آسیا و ایالات متحده است. این مساله همچنین با مشوقهای دولتی و ابتکارات استراتژیک، مانند قانون CHIPS ایالات متحده و برنامههای مشابه در اتحادیه اروپا و چین که تولید داخلی و تابآوری زنجیره تأمین را تسریع میکند، پشتیبانی میشود.
گسترش بازار همچنین در تنوع کاربردهای کاربران نهایی مشهود است. در حالی که منطق و حافظه موتورهای اصلی باقی میمانند، بخشهای نوظهوری مانند الکترونیک خودرویی، زیرساختهای 5G و هوش مصنوعی در حال افزایش تقاضا برای لیتوگرافی پیشرفته هستند. سازندگان تجهیزات با پاسخ به این نیاز بهوسیله سفارشیسازی راهحلها برای گرههای خاص و ادغام ناهمگن، پایگاه مشتری خود را فراتر از کارخانههای سنتی و تولیدکنندگان دستگاههای یکپارچه (IDM) گسترش میدهند.
- انتظار میرود که نوآوریهای مداوم در فناوریهای EUV و DUV هزینه هر ویفر را کاهش داده و بازده را بهبود بخشد.
- سرمایهگذاریهای استراتژیک و مشارکتهای عمومی-خصوصی در حال تسریع گسترش ظرفیت و پذیرش فناوری هستند.
- عوامل ژئوپولیتیک و محلیسازی زنجیره تأمین تولیدکنندگان را به تنوع پایگاههای تولید واداشته است.
به طور خلاصه، بخش تولید تجهیزات لیتوگرافی ماوراء بنفش در سال 2025 برای رشد قابل توجهی آماده است که تحت تأثیر پیشرفتهای فناوری، افزایش جریانهای سرمایه و گسترش فرصتهای بازار در انواع کاربردهای نیمهرساناهای پایه و نوظهور قرار دارد.
چالشها و فرصتها: زنجیره تأمین، مقررات و کاربردهای نوظهور
بخش تولید تجهیزات لیتوگرافی ماوراء بنفش (UV) در سال 2025 با یک چشمانداز پیچیده مواجه است که تحت تأثیر آسیبپذیریهای زنجیره تأمین، چهارچوبهای قانونی در حال تکامل و ظهور سریع دامنههای کاربردی جدید قرار دارد. این عوامل بهطور مشترک چالشهای قابل توجهی و فرصتهای نویدبخش برای ذینفعان صنعت ایجاد میکنند.
دینامیکهای زنجیره تأمین: زنجیره تأمین جهانی نیمهرسانا همچنان تحت فشار است که ناشی از تنشهای ژئوپولیتیک، کمبود مواد خام و اختلالات لجستیکی است. اجزای کلیدی برای سیستمهای لیتوگرافی UV—از جمله اپتیکهای با دقت بالا، منابع نوری ویژه و مواد حساس به نور پیشرفته—اغلب از یک گروه محدود تأمینکنندگان تأمین میشود که ریسک گلوگاهها را افزایش میدهد. فشارهای مداوم برای افزایش تابآوری زنجیره تأمین تولیدکنندگان را به تنوع استراتژیهای تأمین و سرمایهگذاری در مراکز تولید منطقهای واداشته است. به عنوان مثال، بازیگران پیشرو مانند ASML و Canon Inc. در حال گسترش شبکههای تأمینکننده خود و همکاری با شرکای محلی برای کاهش ریسکها و تضمین تداوم تأمین هستند.
محیط قانونی: بررسیهای قانونی در حال تشدید است، بهویژه در مورد کنترلهای صادراتی و حفاظت از مالکیت معنوی. ایالات متحده، اتحادیه اروپا و چین همگی مقررات جدیدی را در مورد صادرات تجهیزات لیتوگرافی پیشرفته، بهخصوص آنهایی که توانایی تولید گرههای زیر 7 نانومتر را دارند، معرفی کرده یا آنها را تقویت کردهاند. این اقدامات برای محافظت از منافع امنیت ملی طراحی شدهاند، اما میتوانند دسترسی به بازار را محدود کنند و همکاریهای فرامرزی را پیچیده کنند. همچنین رعایت استانداردهای زیستمحیطی، مانند دستورالعملهای RoHS و REACH اتحادیه اروپا، به سرمایهگذاری مداوم در فرآیندها و مواد تولید سبزتر نیاز دارد که به پیچیدگی و هزینههای عملیاتی میافزاید.
- کنترلهای صادراتی: اداره صنعت و امنیت وزارت بازرگانی ایالات متحده فهرست فناوریهای تحت کنترل خود را گسترش داده است که تأثیر مستقیمی بر حمل و نقل سیستمهای پیشرفته لیتوگرافی UV به برخی بازارها دارد (Bureau of Industry and Security).
- رعایت زیستمحیطی: قوانین سختگیرانه مدیریت زباله و انتشار سبب میشود تولیدکنندگان در نوآوری برای بهبود بهرهوری انرژی و بازیافت شیمیایی تلاش کنند (European Commission Environment).
کاربردهای نوظهور: فراتر از تولید نیمهرساناهای سنتی، لیتوگرافی UV در حال یافتن کاربردهای جدیدی در بستهبندی پیشرفته، MEMS، فوتونیک و تولید دستگاههای پزشکی است. گسترش فناوریهای AI، IoT و 5G تقاضا برای اجزای پیچیدهتر و مینیاتوریزه بیشتری را تحریک میکند و بازار برای تجهیزات لیتوگرافی UV را گسترش میدهد. شرکتهایی که میتوانند پلتفرمهای خود را برای این کاربردهای نوظهور تطبیق دهند و در عین حال با چالشهای تأمین و قانونی مواجه شوند، در سال 2025 و بعد از آن برای رشد به خوبی واقع خواهند بود (SEMI).
منابع و مراجع
- ASML Holding NV
- Canon Inc.
- Nikon Corporation
- JSR Corporation
- SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.)
- IDC
- IC Insights
- Semiconductor Industry Association
- Bureau of Industry and Security
- European Commission Environment